CCZK-SF磁控溅射镀膜设备
特征描述：
新葡的京集团35222vipCCZK-SF磁控溅射镀膜机，具备成膜速率高，基片温度低，膜的粘附性好，可实现大面积镀膜相对于传统蒸发镀膜设备，新葡的京集团35222vip磁控溅射镀膜可获得更为优秀的膜层致密性，均匀性和结合力采用全新的直流或中频磁控溅射电源，满足不同层次客户需求
全新的高速低温溅射技术，极大的扩展了新葡的京集团35222vipCCZK-SF磁控设备的应用范围，对无法受热或耐热力产品提供优质的溅射镀膜解决方案采用新葡的京集团35222vip创新工艺制造，精益求精，全面通过欧盟CE和ISO质量管理体系认证；
技术配置
CCZK-SF磁控溅射镀膜设备
腔体结构： 立式前开门，卧式前开门。
材质用料：腔体材质为SUS304不锈钢或碳钢
真空系统： 扩散泵（可选分子泵）+罗茨泵+机械泵+维持泵（另有深冷泵系统可供选择）
溅射靶材： 中心圆柱靶，平面靶，孪生靶等
磁控电源： 可配备直流或中频磁控溅射电源
转动系统： 变频调速，公自转结合，可根据客户产品和要求设计
膜层结构： 单层膜、多层膜
气体控制： 气体流量控制仪集成触控操作控制
人机界面： PLC智能控制+全彩HMI触摸屏
操作方式： 逻辑全自动方式、半自动方式、手动方式
智能控制： PLC智能控制+HMI全彩人机触控界面，实现全自动控制
报警及保护：异常情况进行报警，并执行相应保护措施。
其他技术参数：
极限真空： 5.0×10-4Pa
抽气速率： 5.0*10-2≤5min
水压流速≥0.2Mpa 3m3/h；水温≤25℃；气压：0.4-0.8Mpa；
备注：
一般规格：
Φ1000mm*H1200mm，Φ1400mm*H1600mm,Φ1200mm*H1500mm，
Φ1800mm*H2000mm, Φ2000mm*H2200mm
真空室尺寸或设备配置可按客户产品及特殊工艺要求订做
应用
适合镀制高级装饰膜，合金膜层等。全新的高速反应低温溅射技术，成就了其高速的薄膜生长能力和优秀的膜层均匀度致密性，广泛应用于塑料餐具，手机外壳、卫浴洁具、汽车轮毂，五金饰品及标牌等镀膜。亦可溅射塑料制品、陶瓷、马赛克、树脂、水晶玻璃制品等
样品图
